본 연구에서는 은염 물질인 Slavich PFG-01을 사용하여 투과형 홀로그래피 회절격자를 제작하고, 고효율의 회절격자 제작을 위한 현상액의 조성 등과 같은 화학적 처리 과정의 조건들을 파악하고, 반전표백과 무정착 은염 재생성 표백에 의한 회절격자의 회절효율 특성에 대해 알아보았다. 현상액 AAC를 사용하여 반전표백에서 89.0%과 무정착 은염 재생성 표백에서 82.1%의 최대회절효율을 얻었으며, 무정착 은염 재생성 표백의 경우는 반전표백에 비해 높은 노출에너지가 필요함을 알 수 있었다. 기존의 홀로그래피 기록물질인 Agfa 8E75HD나 BB-640로 보고된 회절효율에 비해 더 높은 회절효율 얻을 수 있었으며, 기록물질 특성 차이로 인해 더 높은 노출에너지가 필요함을 알 수 있었다. 한 가지 현상 주약으로 이루어진 현상액에 비해 두가지 현상 주약을 혼합한 경우 더 높은 회절효율을 얻을 수 있었으며, 대체로 반전표백에 비해 무정착 은염 재생성 표백에서 높은 회절효율을 나타내었다.

The characteristics of diffraction gratings, fabricated using Slavich PFG-01 plates as a holographic recording material, were investigated using various bleach techniques. The changes in diffraction efficiencies, under given development conditions, resulting from the use of a new reversal bleach and a new fixation free rehalogenating bleach are investigated. From the experimental results, it was found that the diffraction efficiencies are influenced by the composition of the developer, the reversal bleach and the fixation free rehalogenating bleach. In this study, the highest values of the maximum diffraction efficiency was obtained when PFG-01 plates were developed in AAC developers contained with 1-ascorbic acid 20 g/L and sodium carbonate 60 g/L, processed by a reversal bleach, as high as 89.0%. Moreover, the maximum diffraction efficiency of 82.1% was obtained when PFG-01 plates were processed by a fixation free rehalogenating bleach. In addition, higher diffraction efficiencies are yielded in the case of the revesal bleach than in the case of the fixation free rehalogenating bleach.